低温放电键合
Thor-series

产品特点

  • 可在较低键合温度下(通常在150℃以下)实现硅和玻璃、玻璃与不锈钢、医用钛、超导合金等金属键合,以及各种陶瓷、金属间结合。
  • 允许衬底之间在原子水平上的完美结合,因此不需要使用粘合剂、焊料或任何其他粘合剂。
  • 可以将膨胀系数非常不同的材料粘合在一起。
  • 对灰尘和表面状态不太敏感,无需直接键合所需的超高表面粗糙度以及洁净度。
  • 由于材料界面处的原子间扩散程度较高,低温放电键合具有在低至180°C的温度下将玻璃键合到硅上的优势。对于市场相关的非硅基板材料(如蓝宝石、铌酸锂/钽酸锂、碳化硅等),也可以达到低于200°C的处理温度。其结合了阳极键合的稳定性和其他更复杂键合方法的材料灵活性,可以成功键合具有较大热膨胀系数(CTE)差异的材料,例如玻璃到GaAs,以及玻璃到硅等。

提供多重优势

  • 耐用的键合:高迁移密度即使在低温下也能产生强大而耐用的键合。创建的界面强度超过了所使用的材料。
  • 表面容忍度:与其他直接键合方法相比,低温放电键合对表面缺陷的敏感性较低,可以实现高质量的键合。因此,它不需要成本高昂且常常具有挑战性的表面处理步骤,如化学机械抛光(CMP)和等离子处理。
  • 节省时间和成本的生产:除了减少表面清洁度的需求外,高迁移密度和低温还可以缩短工艺周期时间,并显著降低整体能耗和每个键合的成本,使其非常适合大规模生产。
  • 高兼容性:支持尺寸为4英寸、6英寸和8英寸晶圆在研发、试产线和大批量生产。